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2000年甲基二磺酸系列产品中试成功
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新型甲基二磺酸钠电镀硬铬工艺

新型甲基二磺酸钠电镀硬铬工艺


甲基二磺酸钠电镀硬铬工艺是最新型硬铬电镀工艺,它是高新技术和创造思维的结晶,完全不同与常规镀铬和普通混合型催化剂镀铬工艺,甲基二磺酸钠电镀硬铬工艺拥有工艺操作简单,补给物单一,镀液维护方便等特点。

一、工艺特点
1.
阴极电流效率高,可达23-27%
2.
沉积速度快,是一般普通电镀铬的2-3
3.
无阴极低电流区腐蚀
4.
镀层平滑光亮

5.镀层硬度高,可达HV900-1200
6.
微裂纹可达600-800/厘米
7.
镀层厚度均匀,无高电流区沉积过厚
8.
可使用高密度电流,可达90安培/平方分米
9.
镀液维护简单,操作容易
10.
无阳极腐蚀,不需采用特殊阳极
11
此工艺电镀的硬铬产品之质量与安美特公司heff-25同类产品一致。

二、镀液配方和操作工艺:

成分及物理单位

一般零件

活塞环

范围

标准

范围

标准

铬酐(/)

210-250

250

165-190

180

硫酸(/)

2.4-3.5

3 

1.8-2.1

2.0

温度()

55-60

58

55-60

58

阴极电流密度(安培/平方分米)

30-75

60

30-75

60

阳级电流密度(安培/平方分米)

15-35

30

15-35

30


三、镀液配制:

镀件

铬酐浓度

1000升镀液

一般零件

210-250/

4千克甲基二磺酸钠

活塞环

165-190/

3千克甲基二磺酸钠

 

1.清洗电镀槽子
2.
注入一半体积的去离子水
3.
加入所需量的铬酐,搅拌溶解
4.
添加所需量的磺酸钠(3-4公斤/1000升,热水溶解后倒入)

5.加入去离子水、调节至规定液面
6.
加热至55-60
7.
分析硫酸浓度,调整至规定工艺范围与铬酐(1001-1.2
8.
电解2-5小时,三价铬浓度保持在2-5/升范围内
9.
加入适宜的铬雾抑制剂
10.
试镀
四、沉积速度:

阴极电流密度(安培/平方分米)

沉积速度(微米/小时)

30

20-30

45

40-50

60

50-70

75

70-90

五、设备

阴阳极面积之比:1/2-1/3

阴阳极的距离保持在10 cm左右为宜。

同时温度变化不超过±2℃,电流密度变化不超过±5 Adm2

镀槽:铁槽内衬软PVC或其它认可材料。
阳极:含锡7%铅锡阳极或其它认可材料。
整流器:输出电压可达9-16伏较适宜,输出电流波纹率最好在5%以下。
温度控制:采用热交换器或冷却管,建议采用钛管或金属披覆聚四氟乙烯。
六、转缸及前处理
传统的硬铬电镀液转换为
甲基二磺酸钠电镀硬铬液操作方法简单,只需化验确认无机杂质小于8克/升,同时不含氟化物(稀土成份)即可直接补加甲基二磺酸钠;甲基二磺酸钠电镀硬铬工艺的前处理同一般传统镀硬铬工艺相同无需特殊处理。

七、槽液维护
甲基二磺酸钠添加剂用于槽液之补充添加方法,按每100公斤铬矸0.5-0.8公斤甲基二磺酸钠添加。

铁杂质:电解液不稳定,光泽镀层范围缩小,导电性变差,电压须增高,去除铁杂质比三价铬镀铬镀层还困难,要尽量防止铁污染,不要超过10g/L

铜、锌杂质,含量低时,对镀层影向不大,铜最好不要大于3g/L

硝酸,是镀铬最有害的杂质,镀液须严禁带入硝酸污染。

八、其他应用

   甲基二磺酸钠添加剂也可作为装饰铬的光亮剂。 

 
邮件:jinsc81890@hotmail.com 电话:086-21-56131903 13611829357  FAX:086-21-51012169
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